2026年3月25日，上海稷以科技有限公司大批量12寸低介电常数沉积炉设备Proxima ELK凭借技术突破与创新设计，荣获“SEMICON CHINA 2026产品创新奖”。

SEMICON CHINA在行业内定期举办最高规格SEMICON China、FPD China联展，以及业界学术权威高峰论坛。

该奖项由通过专家评分+大众投票综合得分的方式选出创新产品TOP 10，旨在表彰SEMICON/FPD CHINA展商及会员单位在产品、技术的创新突破。

SEMICON CHINA 2026展会上，稷以科技Proxima ELK创凭借其卓越的产品技术和创新实力，获得了SEMI产品创新奖。

这一殊荣不仅是对公司研发团队的肯定，也是对其在行业中的领先地位的认可。

Proxima ELK 是由稷以科技自主开发的炉管式薄膜沉积设备。主要应用于存储芯片 NAND，DRAM和 logic IC 的薄膜沉积。 

Proxima ELK具有高产能、出色的膜厚控制、极佳的厚度稳定性、优秀的台阶覆盖率、 自动清洗等功能。

稷以科技一直深耕国产化产品研发，专注于为集成电路行业提供等离子体设备与真空热技术设备。

稷以科技将继续秉承“客户第一”的原则为半导体产业提供特色等离子体设备与真空热技术设备，携手共创中国半导体行业的美好未来！